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元のプレスリリース
原文を見る ↗国立大学法人岡山大学「還元酸化グラフェン上でのホモエピタキシャル成長による高結晶・高移動度グラフェン薄膜の実現(次世代電子デバイス応用に向けた新たな結晶化機構を発見)〔東洋大学, 岡山大学〕」
本記事は企業・団体の発表をもとにPR HEADLINE編集部が整理したものです。数値や計画は発表時点の内容であり、変更される場合があります。

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国立大学法人岡山大学「還元酸化グラフェン上でのホモエピタキシャル成長による高結晶・高移動度グラフェン薄膜の実現(次世代電子デバイス応用に向けた新たな結晶化機構を発見)〔東洋大学, 岡山大学〕」
本記事は企業・団体の発表をもとにPR HEADLINE編集部が整理したものです。数値や計画は発表時点の内容であり、変更される場合があります。